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7.5 纯水制备
7.5.1 硅芯、石墨件及硅料清洗应采用纯水。
7.5.2 纯水站位置应满足工艺总体布局的要求,并应就近用水设备布置。
7.5.3 纯水水质指标不应低于表7.5.3的规定。
表7.5.3 纯水水质指标
	
	
	
注:表中第11项~第34项采用电感耦合等离子体质谱(ICP/MS)检测。
7.5.4 纯水储存和分配应符合下列规定:
1 纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求,宜选择洁净聚氯乙烯管(Clean-PVC)、聚偏二氟乙烯管(PVDF)等管材,管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质。
2 纯水输送管道系统应采用循环方式。设计和安装时,不应出现使水滞留和不易清洁的部位。循环干管的流速宜大于1.5m/s,不循环的支管长度不应大于管径的6倍。
3 纯水储罐和输送系统应设置清洗系统。
7.5.5 纯水制备、储存和分配应符合现行国家标准《电子工业纯水系统设计规范》GB 50685的有关规定。
7.5.3 本条主要对纯水的水质提出要求。由于纯水主要用于清洗硅料、硅芯和石墨件,为了避免对清洗料二次污染,所以对水质要求比较高。表7.5.3中的指标数据主要依据了美国《电子和半导体工业用超纯水标准指南》ASTM D5127中E-1级的水质标准。
7.5.4 本条第2款规定纯水系统应采用循环方式,主要是为了保证管道内水的流动性,减少死水区,减小管道材料对水质的影响,防止微牛物及细菌的滋生。
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